关 于

弥费开发的净化系统系列产品主要用于先进技术节点（<=40nm）中关键工艺步骤的晶圆或光罩的品质保护，从而达到提高晶圆厂整体产品良率的目的。

本产品与工厂自动化系统及相关设备柔性连接，通过标准接口及闭环控制系统将超纯压缩空气（或氮气）送入所需净化载具，精准控制湿度从而有效改善产品品质（降低载体内水气、避免晶圆表面氧化或光罩表面雾化），并实现全自动控制及数据采集传送。

净化系统系列产品自2019年推出，已在全球多家排名前十的半导体晶圆厂安装并投入使用，且顺利通过量产验证。

应 用

规 格

 设备上下料端口净化；

 设备前端传送区净化；

 工艺生产存储单元净化；

光罩盒存储净化。

设备上下料端口净化

工艺生产存储单元净化

设备前端传送区净化

光照盒存储净化